在半导体晶圆制造过程中,温控的微小波动都会直接影响成品率。精创电气针对制程中高频响应、极高精度及复杂流体控制的需求,提供定制化温控方案,解决高功耗下的热失控风险。
纳秒级误差控制,满足3nm/5nm制程需求。
动态负载下极速回归目标温度,减少损耗。
晶圆级精密温控
Wafer Level Thermal Control
专注半导体体制程的高性能分体式控制系统,模块化设计助力灵活部署。
专为半导体制冷、加热及载冷液流体控制系统设计。采用高速采样与多级PID算法,支持跨模块级联与冗余保护。
主从机架构,极大提升了信号抗干扰能力与布线灵活性。
具备温度、流量异常报警及紧急停机控制功能
凭借数十年的温控技术积淀,我们在精度与算法领域保持行业领先地位。
搭载24位高精度AD采样芯片,实现工业级稳定测量与毫级响应偏差补偿。
由于热负荷变化引起系统温度剧烈波动对系统的冲击
支持多路4-20mA/0-10V或RS485频率输出,动态调整流体压力与流量。
| 参数名称 | 详细指标 / 参数范围 |
|---|---|
| 工作电压 | AC 220V ±10% / 50-60Hz (可选 110V 或 DC 24V) |
| 温度测量范围 | -100°C ~ +250°C (支持 PT100 / 热电偶输入) |
| 控制精度 | ±0.1°C (稳定状态) |
| 采样频率 | 10Hz ~ 100Hz 可调 |
| 输出信号 | 4路 PWM / 8路 继电器 / 2路 4-20mA 模拟量 |
| 通讯接口 | RS485 (Modbus RTU) / Ethernet (EtherCAT 可选) |
| 防护等级 | IP65 (控制面板) / IP20 (模组) |
* 以上参数可能根据定制化需求有所变动,请以实际出厂报告为准。
我们的技术专家团队随时为您提供一对一的技术支持与方案定制服务,助力企业降本增效。